国家知识产权局信息数据显现，武汉大方机电有限公司获得一项名为“一种除氧器用碟式恒速喷嘴永磁结构”的专利，授权公告号CN224253111U，请求日期为2025年6月。

  专利摘要显现，本实用新型公开了一种除氧器用碟式恒速喷嘴永磁结构，触及喷嘴检修技术领域，该除氧器用碟式恒速喷嘴永磁结构，包含喷嘴设备，所述喷嘴设备的内壁上设置有过滤内筒，所述喷嘴设备的端部装置有端盖，所述端盖的端面上装置有密封盖,且密封盖的四周经过螺栓与端盖和过滤内筒衔接，且螺栓设置有二十个，所述螺栓与端盖的衔接处装置有螺母，所述密封盖的内壁上复合有永磁层，本方案经过内置的永磁集污槽组件将铁基杂质以及不能经过过滤内筒滤网的非铁基杂质存放在槽内。

  天眼查资料显现，武汉大方机电有限公司，成立于1994年，坐落武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。经过天眼查大数据分析，武汉大方机电有限公司共对外出资了1家企业，参加招投标项目299次，产业线条，此外企业还具有行政许可11个。

  国核（北京）核电惯例岛及电力工程研讨中心有限公司，成立于2012年，坐落北京市，是一家以从事研讨和实验开展为主的企业。企业注册资本1000万人民币。经过天眼查大数据分析，国核（北京）核电惯例岛及电力工程研讨中心有限公司参加招投标项目6次，专利信息73条，此外企业还具有行政许可7个。

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